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上海投入11.5亿元建英12寸65至45纳米级产品中试线
2008年4月6日 04:10
来源:解放日报 作者:徐瑞哲 选稿:崔笑愚
  本月,浦东张江高科技园区高斯路边,一处3000平方米的现代化厂房即将结构封顶。这片集成电路净化厂房,由上海国家级集成电路研发中心投入11.5亿元建设,将诞生一条具有业内领先水平的“12英寸/65至45纳米级”产品中试线,成为沪上集成电路公共研发的最新平台。

  从3G手机芯片到电脑双核芯片,集成电路成为全球高新技术产业的基础性、战略性产品。现今,一枚集成电路芯片的工艺精度已细至65纳米、甚至45纳米以下,而一张集成着万千芯片的晶硅圆片,直径已由几英寸扩大到12英寸。IBM、英特尔等七八家行业巨头形成了“国际半导体俱乐部”,发明并分享着业内绝大部分相关专利。统计显示,上海作为全国唯一的国家级微电子产业基地,已引进8条8英寸生产线、1条12英寸生产线,产业规模近400亿元,但与这些海外大企业相比还相去甚远。

  长路追赶,从自主研发起步。借鉴这种“国际俱乐部”模式,上
海以企业为主体,合建国家级集成电路研发中心。在市信息委组织推动下,华虹集团、上海创投、上海大盛、张江集团、上海贝岭、上海信投等生产商和投资商,以及复旦大学、上海交大、华东师大等高校,多元化入股,产学研一体,创立了一个非盈利性的公共研发平台。目前,除了在建的那条高端中试线,还通过与成熟生产线“完美联机”的方法,运转起两个子平台。其中,“特种工艺平台”依托上海贝岭提供的6英寸产品线;而“8英寸/130至90纳米/铜互联线”争取到国际捐赠的全套生产设备,采用圈内俗称的“挂瓶子”方式,挂在华虹NEC的生产环境中。

  这条“你中有我、我中有你”的新型研发路径,一定程度上破了“专利门”瓶颈。上海集成电路研发中心负责人赵宇航透露,中心和多家企业、大学院所已同建一个“专利池”,从原本各有几百项专利,发展到共享两三千项专利,相当于一个“国内半导体俱乐部”。“单一企业与国外同行的专利纠纷概率随之降低,甚至创造出与之交换专利的机会。同时,利用这一企业研发联盟,摊薄了集成电路工艺研发日趋高涨的成本。”

  这个“国内半导体俱乐部”并非“独乐”,开放型的中试线打通了产业上下游之间的瓶颈。

  一些位于上游的中小型集成电路设计企业,设计出的样片在中试线上小批量"流片",通过实际验证,终于被下游的大厂家接受;另一些本土企业研发出的集成电路材料和生产设备,也将兼容于这些中试线,试产成品。   专家表示,国内集成电路研发能力有望在2015年赶上世界先进水平,大量关键技术瓶颈还有待攻破。上海集成电路研发中心的工程师们充分利用现有研发线,取得六七个突破点,向全国进行技术转移。据了解,在产业热点领域,该中心与浙江企业进行微机电系统(MEMS)红外探测芯片的国产化研发,实现了相当于进口1/10的低成本。



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